化学气相沉积CVD

 

一、            设备主要功能及组成

1.       设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。

2.       高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。

3.       管式电阻炉上开盖结构，方便装卸石英管。

4.       多种工艺气体可选，气路系统定制。

5.       电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。

二、            主要技术参数

1． 石英炉管尺寸：Ø30×700（可定制）

2． 极限真空度：≤8.0×10-5Pa

3． 漏率：≤10-7 Pa·L/s

4． 最高加热温度：1100℃（可定制）

5． 气路系统：定制（采用高精度MFC质量流量控制器）

6． 供电电源：380V 50Hz（三相五线制）

7． 进水排管径：DN25

8． 工作水压：0.2Mpa