高真空电阻热蒸发系统

 

一、            设备主要功能及组成

1.       设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、有机（OLED）/金属蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成。

2.       高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。

3.       样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。

4.       多种蒸发源可选，全部模块化设计，标准接口法兰。

5.       可选配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。

6.       电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。

二、            主要技术参数

1． 真空室尺寸：Ø450、Ø540、Ø650、Ø750、Ø1000、Ø1200（定制）

2． 极限真空度：≤6.7×10-5Pa

3． 漏率：≤10-7 Pa·L/s

4． 可选蒸发源：钨丝蒸发舟、钽蒸发舟、可控温有机束源炉等

5． 样品台：可在线升降、旋转、衬底加热、OLED可做在线多次无间隙掩膜

6． 工件转架：三轴联动（公转、自转、单样品自转），增强镀膜均匀性，可加热

7． 可选配工艺系统：手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等

8． 供电电源：380V 50Hz（三相五线制）

9． 进水排管径：DN25

10．             工作水压：0.2Mpa